- lithographie litografiezh gw. -où
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travail des matériaux ◊ ensemble des techniques qui permettent de reproduire dans une résine déposée à la surface d'un matériau le motif d'une structure qu'on désire fabriqueranglais : lithography
- lithographie à l'échelle nanométrique litografiezh nanoskeul gw.
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physique , nanotechnologie ◊ ou nanolithographie - technique qui, à l'échelle nanométrique, permet de reproduire le motif d'une structure moléculaire à la surface d'un matériauanglais : nanoscale lithography / nanolithography
- lithographie molle litografiezh wak gw.
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physique , nanotechnologie ◊ forme de lithographie par nano-impression dans laquelle on utilise une matière molle au lieu d'une matière dure, pour fabriquer un moule ou un tamponanglais : soft lithography
- lithographie par faisceau d'électrons litografiezh gant ur bann elektronoù gw.
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physique , nanotechnologie ◊ reproduction du motif d'une structure micrométrique ou nanométrique dans une résine sensible déposée à la surface d'un matériau en utilisant un faisceau d'électrons comme outil d'impressionanglais : electron beam lithography / EBL / e-beam lithography
- lithographie par faisceau d'ions focalisé litografiezh gant ur bann ionoù fokuset gw.
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physique , nanotechnologie ◊ reproduction du motif d'une structure micrométrique ou nanométrique dans une résine sensible au moyen d'un faisceau d'ions généralement dirigé par un système de lentilles électrostatiquesanglais : focused ion beam lithography / FIBL / FIB lithography
- lithographie par nano-impression litografiezh nanomoullerezh gw.
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physique , nanotechnologie ◊ ou nano-impression - lithographie dans laquelle on applique un moule dur ou un tampon encreur à la surface d'un matériau, afin d'y laisser dans une résine l'empreinte d'une structure nanométriqueanglais : nanoimprinting lithography / NIL / nanoimprinting
- lithographie par projection d'ions litografiezh gant ur bann ionoù gw.
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physique , nanotechnologie ◊ technique où un faisceau d'ions, généralement dirigé par un système de lentilles électrostatiques, est projeté, à travers un masque de type stencil, en direction de la résine sensibleanglais : ion beam projection lithography / ion projection lithography / IPL
- lithographie par projection de faisceau d'électrons litografiezh gant ur bann elektronoù gw.
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physique , nanotechnologie ◊ technique où un faisceau d'électrons, généralement dirigé par un système de lentilles électromagnétiques, est projeté, à travers un masque de type stencil, en direction de la résine sensibleanglais : electron beam projection lithography / electron projection lithography / EPL
- lithographie par rayons X litografiezh gant skinoù X gw.
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physique , nanotechnologie ◊ utilisation des rayons X pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masqueanglais : X-ray lithography / XRL / X-lithography
- lithographie par ultraviolets extrêmes litografiezh gant skinoù UV tre gw.
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physique , nanotechnologie ◊ utilisation de rayons UV de 10 à 14 nm pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masque par un système de miroirsanglais : extreme ultraviolet lithography / extreme UV lithography / EUV lithography